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XUV(EUV)/X-ray反射鏡
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產品描述
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XUV(EUV)/X-ray反射鏡 | ||
日本NTT-AT公司在XUV(EUV)和X-ray反射鏡制造方面已經有二十年以上的技術積累和經驗, 支持紫外波段和X射線波段的反射鏡參數定制。XUV(EUV), X-ray反射鏡在極紫外光刻、高次諧波產生、阿秒科學等科研和工業領域都有重要應用。除標準產品之外，我們可以在各個方面滿足訂制要求，定制參數包括尺寸、形狀、基底材質、鍍膜等。 | ||
產品特點： ◇支持定制參數 ◇高耐久性 ◇高熱穩定性 ◇質量穩定 |
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XUV(EUV),X-ray反射鏡典型參數表 | |||
名稱 | 鍍膜 | 基底材料 | 典型波長 |
XUV(EUV)反射鏡 | 多層膜鏡 | Mp/Si Ru/Si Ar/Al SiC/Mg Cr/C | 50eV~100eV 50eV~100eV 50eV~70eV 25eV~50eV ~300eV |
單層膜鏡 | SiC Pt Ru | 10eV~100eV | |
X-ray反射鏡 | 多層膜鏡 | S/C S/B4C Ru/C Pt/C | 1keV~30keV |
單層膜鏡 | C B4C SiC Cr In | 1keV~30keV | |
