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      XUV/UVU光譜儀

      Ultrafast Innovations的 XUV / VUV光譜儀結合相差矯正和平場成像技術,配合三種可選光柵可以分別測量 1-17 nm (1240-73 eV)、 5-80 nm (248-15.5 eV) 和 24-200 nm (51.7-6.2 eV)的光譜范圍。
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      Ultrafast Innovations - XUV/UVU光譜儀


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      Ultrafast Innovations的 XUV / VUV光譜儀結合相差矯正和平場成像技術,配合三種可選光柵可以分別測量 1-17 nm (1240-73 eV)、 5-80 nm (248-15.5 eV) 和 24-200 nm (51.7-6.2 eV)的光譜范圍。為了增大光通量,在滿足要求的工作距離下,光譜儀可在沒有入射狹縫的情況下使用,對應的光譜 測量范圍分別為 3-17 nm、10-80 nm 和24-200 nm。光譜儀采用模塊化的設計,滿足不同實驗條件下使用,內置集成狹縫、閘閥、濾波片夾具和轉動光柵的三維平移臺。


      技術特點:

      • 平場入射光譜采樣  

      • 集成閘閥和濾波片插入裝置  

      • l單光柵波長覆蓋范圍  

      • 運行環鏡壓力: <10-6   mbar  

      Soft X-Ray: 1-17 nm (1240-73 eV)

      • 無油泵系統,可真空下操作  

      XUV: 5-80 nm (248-15.5 eV) 

      • 探測器可選:  

      VUV: 24-200 nm (51.7-6.2 eV)

       X-ray CCD-camera 或 MCP

      • 可在有狹縫和無狹縫兩種模式下工作  

      • 探測器可選:友好的軟件界面  

      • 不同類型適配器可選  



      詳細參數:

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      測試案例:

      下圖(上)展示了光譜儀測試軟件的主要功能,包含單個飛秒激光脈沖與氣體靶作用產生的高次諧波光譜和后面的光譜濾波。后期處理工具可以進行校準、合并和原始數據分析,如下圖(下)所示,最終的XUV頻譜解決了固有的最精細的子結構。

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