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      XUV(EUV)/X-ray反射鏡

      XUV(EUV), X-ray反射鏡在極紫外光刻、高次諧波產生、阿秒科學等科研和工業領域都有重要應用。除標準產品之外,我們可以在各個方面滿足訂制要求,定制參數包括尺寸、形狀、基底材質、鍍膜等。
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      XUV(EUV)/X-ray反射鏡

      日本NTT-AT公司在XUV(EUV)和X-ray反射鏡制造方面已經有二十年以上的技術積累和經驗, 支持紫外波段和X射線波段的反射鏡參數定制。XUV(EUV), X-ray反射鏡在極紫外光刻、高次諧波產生、阿秒科學等科研和工業領域都有重要應用。除標準產品之外,我們可以在各個方面滿足訂制要求,定制參數包括尺寸、形狀、基底材質、鍍膜等。

      產品特點:

      ◇支持定制參數

      ◇高耐久性

      ◇高熱穩定性

      ◇質量穩定

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      XUV(EUV),X-ray反射鏡典型參數表

      名稱 

      鍍膜 

      基底材料

      典型波長





      XUV(EUV)反射鏡



      多層膜鏡

      Mp/Si

      Ru/Si

      Ar/Al

      SiC/Mg

      Cr/C

      50eV~100eV

      50eV~100eV

      50eV~70eV

      25eV~50eV

      ~300eV

      單層膜鏡

      SiC

      Pt

      Ru

      10eV~100eV





      X-ray反射鏡


      多層膜鏡

      S/C

      S/B4C

      Ru/C

      Pt/C

      1keV~30keV



      單層膜鏡

      C

      B4C

      SiC

      Cr

      In

      1keV~30keV


      型號
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